MIT-Forscher ermöglichen Produktion von 25-nm-Chips

Forscher des Massachusetts Institute of Technology (MIT) haben eine Produktionsverfahren für Mikrochips entwickelt, das sehr kleine Strukturgrößen ermöglicht. Mit einer Abwandlung eines gängigen Lithografieverfahrens zum Erzeugen von Chip-Strukturen konnten sie Linien mit einer Breite von 25 Nanometern und ebenso großen Abständen erzeugen.

Basis für die Arbeit der Forscher war die sogenannte Interferenzlithografie, bei der Strukturen mithilfe von Laserlicht erzeugt werden. In einer Abwandlung dieser gängigen Methode haben die MIT-Wissenschaftler Schallwellen genutzt, um das Laserlicht so zu beeinflussen, dass damit die kleinen Strukturen hergestellt werden können.

„Die Kontrolle über den lithografischen Prozess ist nicht mehr der limitierende Faktor“, sagt Teammitglied Mark Schattenburg. Vielmehr seien es nun Materialfragen, welche die größte Barriere auf dem Weg zu noch kleineren Strukturen bildeten. „Unsere Resultate zeigen, dass es noch viel Platz für Skalenreduzierung bei optischer Lithografie gibt.“

Schon die 25-nm-Strukturgröße ist ein großer Schritt: Aktuell sind 65-nm-Strukturen verbreitet, Intel war erst gegen Ende des Vorjahres zur 45-nm-Technologie übergegangen. 2009 werden Chips laut Intel auf 32-nm-Strukturen geschrumpft.

Die Industrie plane mit einer Strukturgröße von 25 nm für den Zeitraum von 2013 bis 2015, so die MIT-Forscher. Ihre neue Lithografietechnik sei auch ökonomisch attraktiv, da sie ohne bestimmte Chemikalien, teure Werkzeuge oder die Nutzung von Immersionslithografie-Techniken mit zusätzlichem flüssigen Medium auskomme. Die Technologie lässt sich laut MIT beispielsweise für die Produktion von Next-Generation-Speicher, integrierten Schaltkreisen oder Solarzellen nutzen.