P4-Nachfolger wird in 0,09 Mikron-Technik gefertigt

Für schnellere Prozessoren bedarf es neuer Herstellungstechniken. Genau diese hat jetzt der Halbleiterhersteller Intel (Börse Frankfurt: INL) angekündigt.

So soll der Pentium 4-Nachfolger mit dem Codenamen Prescott in 90 Nanometer-Herstellungsprozess gefertigt werden. Das Produktionsverfahren soll ab 2003 mit den 300 Millimeter-Wafern zum Einsatz kommen. Der 0,09 Mikron-Prozess nutze dabei neuartige Kupferverbindungen und Low K dielektrisches Material.

Das neue Produktionsverfahren soll den Einsatz von nur 50 Nanometer langen Transistoren ermöglichen. Bisher haben die Transistoren eine Größe von 60 Nanometer. In dieser Größe werden sie derzeit im Pentium 4 eingesetzt. Die neuen Transistoren sollen Gate-Oxids besitzen, die nur fünf Atomlagen dick sind. Laut Intel werden dabei mit Kohlenstoff dotierte Oxide (CDO) als dielektrisches Material eingesetzt.

Die neue Produktionstechnik nutzt der Chiphersteller nach eigenen Aussagen bereits in Entwicklungs-Labors. In Serie soll die Technik erstmals mit dem Pentium 4-Nachfolger Prescott angewandt werden. Der Chip soll in der zweiten Jahreshälfte 2003 auf den Markt kommen.

Aktuelles und Grundlegendes zu Prozessoren sowie deren Leistung liefert ein ZDNet-Benchmark-Test.

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